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Dry Etching for Micromachining Applications
Srinivas A Tadigadapa, Franz Lärmer
Pennsylvania State University Robert Bosch (Germany)
来源MEMS reference shelf/MEMS reference Shelf
年份2011
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摘要与影响
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逐年被引趋势
210
12
216
17
20
21
24
25
关键指标
11
被引次数 · OpenAlex
2.55
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 13%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
97
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
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依据：文献信息
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学术脉络
学科主题
工程Plasma Diagnostics and Applications
Advanced MEMS and NEMS Technologies · Advancements in Photolithography Techniques
参考文献 97
Plasma Processing of III-V Materials
被引 7Chris Youtsey, I. Adesida · Springer eBooks · 2000
Fundamentals of Plasma Process-Induced Charging and Damage
被引 6Konstantinos P. Giapis · Springer eBooks · 2000
Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
被引 107S. M. Rossnagel, J. J. Cuomo, William D. Westwood · 1991
此处列出前 3 条
引用本文 11
Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication
被引 287Michael A. Huff · Micromachines · 2021
MEMS Materials and Processes Handbook
被引 242Reza Ghodssi A, Pinyen Lin · MEMS reference shelf/MEMS reference Shelf · 2011
Plasma etching behavior of Y2O3 ceramics: Comparative study with Al2O3
被引 139Yu-Chao Cao, Lei Zhao, Jin Luo · Applied Surface Science · 2016
按被引量排序，此处列出前 3 条