研究论文
Photo-initiated deposition and etching of materials relevant to semiconductor devices
J. Haigh, M.R. Aylett
BT Group (United Kingdom)
来源Progress in Quantum Electronics
年份1988
阅读操作
确认中在文库中上传 PDF 后可生成中文音频讲解。
摘要与影响
摘要 · 节选
暂未获取摘要。可打开原文或 PDF，后续可基于全文生成更完整的速读。
逐年被引趋势
暂无年度引用数据
关键指标
11
被引次数 · OpenAlex
3.05
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 10%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
287
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
AI 辅助阅读
依据：文献信息
论文问答
当前基于文献信息回答
可就本文提问；依据不足时会说明。
学术脉络
学科主题
工程Laser Material Processing Techniques
Nanofabrication and Lithography Techniques · Optical Coatings and Gratings
参考文献 287
Pulsed laser processing of semiconductors
被引 69R. F. Wood, C. W. White, R. T. Young · 1984
Selective etching and photoetching of {100} gallium arsenide in CrO3-HF aqueous solutions
被引 86J.L. Weyher, J. van de Ven · Journal of Crystal Growth · 1983
Photodeposition of aluminum oxide and aluminum thin films
被引 106Raj Solanki, W. H. Ritchie, G. J. Collins · Applied Physics Letters · 1983
此处列出前 3 条
引用本文 11
Photochemical Vapor Deposition
被引 77J. G. Eden · Elsevier eBooks · 1991
Mechanistic studies of photoinduced reactions at semiconductor surfaces
被引 66Lee J. Richter, Richard R. Cavanagh · Progress in Surface Science · 1992
Light induced chemical vapour deposition of titanium oxide thin films at room temperature
被引 30Estelle Halary, Giacomo Benvenuti, Frank Wagner · Applied Surface Science · 2000
按被引量排序，此处列出前 3 条