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Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP)
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摘要与影响
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逐年被引趋势
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关键指标
108
被引次数 · OpenAlex
4.51
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 6%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
0
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
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学术脉络
学科主题
工程Advanced Surface Polishing Techniques
Advanced machining processes and optimization · Laser Material Processing Techniques
参考文献 0
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引用本文 108
A comprehensive review on magnetic carbon nanotubes and carbon nanotube-based buckypaper for removal of heavy metals and dyes
被引 372Fahad Saleem Ahmed Khan, Nabisab Mujawar Mubarak, Yie Hua Tan · Journal of Hazardous Materials · 2021
A review on chemical and mechanical phenomena at the wafer interface during chemical mechanical planarization
被引 178Jihoon Seo · Journal of materials research/Pratt's guide to venture capital sources · 2021
Application of nanomaterial for enhanced oil recovery
被引 152Tuo Liang, Jirui Hou, Ming Qu · Petroleum Science · 2021
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