研究论文
A brief review of dual-frequency capacitively coupled discharges
Zhenhua Bi, Yong-Xin Liu, Wei Jiang, Xiang Xu, You‐Nian Wang
Dalian University of Technology Dalian University Huazhong University of Science and Technology
来源Current Applied Physics
年份2011
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摘要与影响
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逐年被引趋势
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关键指标
52
被引次数 · OpenAlex
3.02
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 9%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
133
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
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学术脉络
学科主题
工程Plasma Diagnostics and Applications
Metal and Thin Film Mechanics · Semiconductor materials and devices
参考文献 133
Molecular Gas Dynamics And The Direct Simulation Of Gas Flows
被引 7,278G. A. Bird · 1994
Principles of Plasma Discharges and Materials Processing
被引 4,782M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg · 2005
Proceedings of the twelfth International Symposium on Plasma Processing
被引 4G. S. Mathad · Medical Entomology and Zoology · 1998
此处列出前 3 条
引用本文 52
Plasma processing of low-k dielectrics
被引 291Mikhaı̈l R. Baklanov, Jean‐François de Marneffe, Denis Shamiryan · Journal of Applied Physics · 2013
Tailored-waveform excitation of capacitively coupled plasmas and the electrical asymmetry effect
被引 150Trevor Lafleur · Plasma Sources Science and Technology · 2015
Optical Emission Spectroscopic (OES) analysis for diagnostics of electron density and temperature in non-equilibrium argon plasma based on collisional-radiative model
被引 91Hiroshi Akatsuka · Advances in Physics X · 2019
按被引量排序，此处列出前 3 条