研究论文

Controlled synthesis of cerium-based polishing powder with high trivalent cerium content via oxygen-free calcination and its impact on chemical mechanical polishing

Shuaijun Yue, Zhenyu Zhang, Ruihua Guo, Qun HU, Siyuan Zhao, Liu Yang, Yanying Cui, Na Fan 等 10 位

来源Journal of Rare Earths

年份2026

DOI10.1016/j.jre.2026.07.032

原文https://doi.org/10.1016/j.jre.2026.07.032

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学术脉络

学科主题

工程

Advanced Surface Polishing Techniques

Extraction and Separation Processes · Geochemistry and Elemental Analysis

参考文献 31

Silicon Nitride Chemical Mechanical Polishing Mechanisms

Yi Hu, R.J. Gutmann, T. Paul Chow · Journal of The Electrochemical Society · 1998

被引 62

RE (La, Nd and Yb) doped CeO2 abrasive particles for chemical mechanical polishing of dielectric materials: Experimental and computational analysis

Jie Cheng, Shuo Huang, Yang Li · Applied Surface Science · 2019

被引 130

Influence of CeO2 loading on structure and catalytic activity for NH3-SCR over TiO2-supported CeO2

Hongliang Zhang, Long Ding, Hongming Long · Journal of Rare Earths · 2020

被引 74

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