研究论文
Stress reduction in ultra-small thin film Al2O3 diaphragms by atomic layer deposition
T. Süß, Philipp Braeuninger‐Weimer, Christofer Hierold
ETH Zurich
来源Sensors and Actuators A Physical
年份2014
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摘要与影响
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逐年被引趋势
320
13
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316
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22
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关键指标
12
被引次数 · OpenAlex
0.88
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 23%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
30
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
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学术脉络
学科主题
工程Semiconductor materials and devices
Electronic and Structural Properties of Oxides · Metal and Thin Film Mechanics
参考文献 30
Introduction to Microsystem Design
被引 84Werner Karl Schomburg · RWTHedition · 2015
Nanoindentation Investigation of HfO[sub 2] and Al[sub 2]O[sub 3] Films Grown by Atomic Layer Deposition
被引 102Kandabara Tapily, Joseph E. Jakes, Donald S. Stone · Journal of The Electrochemical Society · 2008
Stress-related effects in thin films
被引 1,158John A. Thornton, David W. Hoffman · Thin Solid Films · 1989
此处列出前 3 条
引用本文 12
Large deflection of clamped circular plate and accuracy of its approximate analytical solutions
被引 37Yin Zhang · Science China Physics Mechanics and Astronomy · 2016
Thermomechanical properties of aluminum oxide thin films made by atomic layer deposition
被引 15Oili Ylivaara, Andreas Langner, Satu Ek · Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films · 2022
Stress reduction in ultra-small thin film Al2O3 diaphragms by atomic layer deposition
被引 12T. Süß, Philipp Braeuninger‐Weimer, Christofer Hierold · Sensors and Actuators A Physical · 2014
按被引量排序，此处列出前 3 条