研究论文开放获取
High-efficiency and high-quality electrochemical liquid film shearing polishing for 4H-SiC
Yiwei Liang, Hongbing Wan, Hongyu Chen, Yunxiao Han, Binghai Lyu, Wei Hang
Zhejiang University of Technology Sun Yat-sen University
来源Tribology International
年份2026
阅读操作
确认中在文库中上传 PDF 后可生成中文音频讲解。
摘要与影响
摘要 · 节选
暂未获取摘要。可打开原文或 PDF，后续可基于全文生成更完整的速读。
逐年被引趋势
暂无年度引用数据
关键指标
0
被引次数 · OpenAlex
0.00
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 50%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
46
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
AI 辅助阅读
依据：文献信息
论文问答
当前基于文献信息回答
可就本文提问；依据不足时会说明。
学术脉络
学科主题
工程Advanced Surface Polishing Techniques
Advanced Machining and Optimization Techniques · Silicon Carbide Semiconductor Technologies
参考文献 46
Advances in Silicon Carbide Electronics
被引 79J.C. Zolper, Marek Skowroński · MRS Bulletin · 2005
On the lattice parameters of silicon carbide
被引 114Matthias Stockmeier, R. Müller, S. A. Sakwe · Journal of Applied Physics · 2009
Silicon carbide as a new MEMS technology
被引 419Pasqualina Maria Sarro · Sensors and Actuators A Physical · 2000
此处列出前 3 条
引用本文 -
暂无引用本文的记录