研究论文
Influence of structure development on atomic layer deposition of TiO2 thin films
Jaan Aarik, J. Karlis, Hugo Mändar, Teet Uustare, Väino Sammelselg
University of Tartu
来源Applied Surface Science
年份2001
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摘要与影响
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关键指标
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领域内被引倍数
同类平均 = 1
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引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
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参考文献
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学术脉络
学科主题
材料 / 化学Catalytic Processes in Materials Science
Electronic and Structural Properties of Oxides · Semiconductor materials and devices
参考文献 20
Atomic layer epitaxy growth of titanium dioxide thin films from titanium ethoxide
被引 100Mikko Ritala, Markku Leskelä, Eero Rauhala · Chemistry of Materials · 1994
Growth process in atomic layer epitaxy of Zn chalcogenide single crystalline films on (100)GaAs
被引 189Takafumi Yao, Toshihiko Takeda · Applied Physics Letters · 1986
A low-cost, high-efficiency solar cell based on dye-sensitized colloidal TiO2 films
被引 28,439Brian C. O’Regan, Michaël Grätzel · Nature · 1991
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引用本文 106
Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process
被引 2,586Riikka L. Puurunen · Journal of Applied Physics · 2005
ZnO Nanostructures for Dye‐Sensitized Solar Cells
被引 1,767Qifeng Zhang, Christopher S. Dandeneau, Xiaoyuan Zhou · Advanced Materials · 2009
Crystallinity of inorganic films grown by atomic layer deposition: Overview and general trends
被引 1,407Ville Miikkulainen, Markku Leskelä, Mikko Ritala · Journal of Applied Physics · 2013
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