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Masks for Extreme Ultraviolet Lithography
Syed Rizvi
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摘要与影响
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逐年被引趋势
110
113
20
25
关键指标
5
被引次数 · OpenAlex
1.91
领域内被引倍数
同类平均 = 1
同类平均 = 1
前 10%
引用位次
同领域 · 同年份 · 同类型
同领域 · 同年份 · 同类型
24
参考文献
Google Scholar 与 OpenAlex 的被引统计范围不同，数值存在差异属正常。
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依据：文献信息
论文问答
当前基于文献信息回答
可就本文提问；依据不足时会说明。
学术脉络
学科主题
工程Advancements in Photolithography Techniques
Advanced X-ray Imaging Techniques · Optical Coatings and Gratings
参考文献 24
Low dose SIMOX for ULSI applications
被引 7A.J. Auberton‐Hervé, B. Aspar, J.L. Pelloie · Springer eBooks · 1995
Nato Advanced Research Workshop
被引 197W. E. Larson, G. R. Blake, Raymond Richard Allmaras · Springer eBooks · 1989
Ion projection lithography: International development program
被引 31Rainer Kaesmaier, Hans Löschner, Gerhard Stengl · Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena · 1999
此处列出前 3 条
引用本文 5
EUV lithography
被引 60Kevin Kemp, Stefan Wurm · Comptes Rendus Physique · 2006
Surface Engineering with Polymer Brush Photolithography
被引 57Michele Fromel, Mingxiao Li, Christian W. Pester · Macromolecular Rapid Communications · 2020
Extreme Ultraviolet Lithography
被引 0M. Besacier, C. Constancias, Jean Yves Robic · 2013
按被引量排序，此处列出前 3 条