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Plasma-induced Vertical Self-stratification Enables High-performance Amorphous Oxide Transistors with Robust Operational Stability

Ji Hoon Choi, Jihoon Choi, Seong‐Pil Jeon, Sung Kyu Park, Sung Woon Cho, Hyung Koun Cho

来源SSRN Electronic Journal

年份2026

DOI10.2139/ssrn.7301861

原文https://doi.org/10.2139/ssrn.7301861

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学术脉络

学科主题

工程

Thin-Film Transistor Technologies

Organic Electronics and Photovoltaics · Semiconductor materials and devices

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