PEALD沉积Al2O3薄膜的中高频形貌演化规律

研究了基于等离子体增强原子层沉积（PEALD）技术沉积的Al2O3薄膜的光学性能和微观形貌演化，系统分析了Al2O3薄膜在不同沉积厚度、不同基板微观形貌下的生长速率、折射率、密度、粗糙度以及表面形貌功率谱密度（PSD）函数的变化及其内在机制。随着沉积厚度的增加，薄膜的生长速率逐渐下降至收敛，密度和折射率逐渐增大至收敛。生长速率、密度和折射率的变化几乎不受基板表面微观形貌影响，而薄膜的表面微观形貌受基板特征形貌影响。随着沉积厚度的增加，高频至中频空间频域的PSD函数呈现分段上升趋势，并逐步转变为薄膜的本征PSD特征。这些发现为深入理解PEALD薄膜的生长过程提供了重要依据，并为强激光器件及超低损耗薄膜的研制提供了理论指导。